性能是否达到7纳米水平_服务器

资料来源：网络整理时间：2023/3/8 14:32:30 共计：3570 浏览

性能是否达到7纳米水平？

中芯国际能够达到14nm工艺离不开曾经就职于台积电的梁孟松博士，算是填补了国内14纳米的制造工艺，而且现在的14纳米技术已经成功应用于市场上，在国家半导体鼓励半导体快速发展的阶段首先要感谢像梁博士这种高级人才在这方面做出的贡献，华为公司已经把中低端芯片生产订单交给中芯国际去制造，也是对国内芯片制造产业的一种支持，同时也能减少华为公司芯片制造的风险，毕竟只是单纯的依靠台积电一家企业，还是存在一定的风险，有了中芯国际的在中低端的支撑起码给华为公司吃了一个定心丸。

芯片难度主要分成两块，芯片的设计和芯片的制造工艺，在芯片设计上华为公司已经在集成芯片上有了长足的进步，在基带芯片方面已经跨入高端的行列，中兴在芯片设计上也有了很大的突破已经在7纳米实现了量产，这些都证明在芯片设计上国内的巨头企业已经有了突破，在龙头的带动下芯片必然能够一定程度上带动产业的发展。但在芯片制造工艺上差距还是非常明显，好在中芯国际在2017年赢来了梁孟松博士及其300多人的技术团队，这个团队在台积电以及三星公司都创造出巨大的成绩来，中国的芯片制造需要这种强有力的团队带动，中国的发展虽然迅速但在精细化工艺上明显的人才储备不够，需要有高水准的人才带动产业的发展。

梁孟松博士主导的FinFET手艺在此基础上延伸的N+1，N+2已经在积极的准备中，N+1算是对14纳米技术的升级版本，不仅仅在机能，功耗，逻辑面积上都有了较大程度的提升，预计在2020年底量产，N+1的工艺其实已经开始向着7纳米的技术迈进了，但是在规格上还存在很大的差异，其实从理论上讲可以将体积和功耗大一些，在工艺上先能够达这种过度的方式，中芯国际只要能够让梁孟松博士继续领导团队在7纳米技术上实现突破只是时间问题，还要保护这些技术人才不被外来的势力所迫害，也算是给中国的芯片制造点燃一个烛光，星星之火可以燎原。

本来中芯国际已经从荷兰ASML公司订购了7纳米的光刻机，但是由于美国一直在施加压力，这件事一直处于搁浅的状态，所以发展自己的制造工艺已经是必须要走的路，现在已经没有捷径可以走了，所以梁孟松博士推出N+1，N+2的方案就属于创新性的制造工艺，如果能够稳定的研发下去在将来突破7纳米技术也不是不可能的，国内由于之前的基础太过于薄弱相关的技术人员储备太差，而且由于国外技术上的封锁让荷兰的ASML公司已经成为垄断性质的存在，而且能够买到ASML公司产品的企业都要看美国的脸色，这就是技不如人的后果。

本来在中芯国际突破了14纳米的技术之后，荷兰的ASML松口卖7纳米的技术给中芯国际，其实也是为了抑制其快速发展的势头，抑制其自主的创新性，不想中芯国际未来成为最大的竞争对手，就整体而言国内半导体缺口还是非常的巨大，无论从半导体的零部件，还是芯片制造，芯片设计，原材料的加工等等几乎绝大部分都要依赖进口，国家在政策上也在不断的修正就是为了让国内的半导体行业能够快速的壮大起来。希望中芯国际的势头不要被外界的势力所干扰，能够持续的创新下去，起到龙头的带动作用也是国之幸事，希望能帮到你。

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